自从华为芯片被制裁后，光刻机这原本非常冷门的名词突然爆火，无数中国人翘首以盼EUV光刻机能够进入中国大陆，更多的人期盼国产EUV光刻机能够攻克。

然而对于我们来说求之不得的EUV光刻机，外媒却表示有点嫌弃，因为EUV光刻机太耗电了，一点都不环保!

EUV光刻机到底有多耗电？

根据外媒报道，ASML新一代EUV光刻机每台设备额定功耗是万瓦，工作一天的耗电量达到三万度，约是前代设备的10倍。目前台积电已经向荷兰ASML公司购买了超过80台EUV光刻机，这意味着台积电EUV光刻机一天的耗电量就高达两百多万度。

如此惊人的耗电，难怪外媒要嫌弃EUV光刻机，一些绿色环保组织更是对此忧心忡忡。但是嫌弃归嫌弃，台积电却无法真的抛弃EUV光刻机。要知道，台积电使用的FinFET晶体管技术在导入7纳米以上的工艺产能时，必须用到EUV光刻机。

FinFET技术目前已经非常成熟，产业生态也很完善，台积电不可能中途更换到其他赛道。因此，台积电未来只会越来越依赖EUV光刻机。

相反，FD-SOI（全耗尽型绝缘体上硅）技术有着能耗低、成本低、不依赖EUV光刻机的优势。并且，FD-SOI由于诞生时间较晚，没有培养出完善的产业生态，市场份额低，因此相比FinFET技术更容易进入国内产业链，目前已经被国内产业链专家视为未来突破封锁的希望。

所谓船大难掉头，率先发展起来的晶圆巨头台积电既有先发优势，也有先发劣势，所以不要指望台积电能够摆脱EUV光刻机的束缚。根据目前台积电的耗电水平，预计到年，台积电将每年吃掉中国台湾省整体能源消耗的12.5%。

在一个严重依赖化石燃料的小岛上，仅一家企业就消耗这么多电量，更别说岛上还有其他不少芯片厂商也在用EUV光刻机。如此数量众多的高耗能芯片厂，必然会挤压民用电力，这使得中国台湾发展可再生能源已经是迫在眉睫。

那么为什么EUV光刻机这么耗电呢？

EUV光刻机的全称是极外紫线光刻机，极紫外线光源可以说是EUV光刻机最重要的部分，而要产生极紫外线就必须使用功耗极大的激光器。

目前EUV光刻机对极紫外线的利用率还比较低，极紫外线在前进到晶圆的过程中，需要经过数十次反射镜修正方向，每经过一次反射，大概有30%的能量损耗。最终，真正参与到工作的极紫外线只有2%。

除了极紫外光线本身的损耗以外，冷却系统所占用的能耗也不少。由于极紫外光线产生大量能量损耗，EUV光刻机工作时会产生大量热量，因此必须给机器降温散热才能确保机器不会损坏。

当然还有其他方面也需要消耗大量用电，比如维持电压的稳定的设备，又比如维持生产车间的洁净度需要对空气进行多重过滤等。芯片制造是一个非常精细化的过程，不仅工序繁多，对生产环境的要求也很高，一点灰尘落入晶圆，都会大大降低晶圆的良品率。

台积电的用电困境也给中国大陆晶圆厂带来了启示，虽然大陆暂时没有EUV光刻机，但是我们也并没有放弃EUV光刻机的引入和研发。未来，我们迟早也会用EUV光刻机来制造先进制程芯片。但在此之前，我们必须要保证万无一失，所以一方面我们在攻克EUV光刻机时优化好设备的能源损耗；另一方面我们要加快推进光伏、水电、风电、核能等清洁能源的发展，确保能源供应充足。

我坚信，国产半导体产业的发展是无限光明的，那么对于EUV光刻机一天用电3万度的情况，你是怎么看待的呢？欢迎在评论区分享出你的见解和看法。