当前位置: 绝缘体 >> 绝缘体发展 >> 半导体设备国产化率极低,多项关键设备取得
一、半导体应用情况。
半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,现在已经发展到第三代,第一代半导体材料主要以硅、锗为代表,第二代半导体材料以砷化镓、磷化铟为代表,第三代半导体材料以氮化镓、碳化硅为代表。第三代半导体材料具有抗高温、高功率、高压、高频以及高辐射等特性,同时装备体积和能量损失更小。
半导体应用分为四种,分别为集成电路、光电器件、分立器件和传感器,其中集成电路在总销售额占比高达80%以上,是半导体产业链的核心领域。
半导体四大领域销售额占比情况
二、集成电路产业链中对应的设备需求。
集成电路产业链有三大环节:芯片设计、芯片制造、芯片封装测试,芯片制造需要的设备为前道设备,对应的材料为晶圆材料,封装测试需要的设备为后道设备,对应的材料为封装材料。
全球半导体设备大致可以分为11大类,50多种机型,其中前道设备主要有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积机、离子注入机、CMP设备、清洗机、前道检测设备和氧化退火设备八大类,后道设备主要分为测试设备和封装设备。
前道设备的销售额要远远大于后道设备,年前道设备销售额占比为85%,后道设备中封测设备占比为9%,封装设备占比6%。前道设备5大龙头公司占据了全球60%以上的市场份额,5家公司分别为应用材料、阿斯麦、东京电子、拉姆研究和KLA。
年全球前道设备企业市场销售额占比
三、中国大陆设备市场份额不断提升,但国产化率极低。
年,我国半导体设备销售额为亿美元,占比26.3%,成为了全球最大的半导体设备市场,据国际半导体产业协会(SEMI)预测,年全球半导体设备销售额将达到亿美元,我国的市场份额将提高到30%,即亿美元。
但我国的半导体设备国产化率非常低,很多的设备都没有或是刚刚突破,其中难度最大的为光刻机和离子注入机,好消息是上海微电子和凯世通的相关产品已经研制成功,实现了0的突破,未来就是慢慢缩小差距,逐步赶上甚至超越国际巨头。
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